Offenlegung des Patentes zur Messung der Stack-Verformung beim SOFC/SOEC-Fügeprozess
Offenlegung des SIVONIC Patentes zur Messung der Stack-Verformung beim SOFC/SOEC-Fügeprozess durch elektrochemische Impedanzspektroskopie (EIS) …
SIVONIC erweitert DC-Strombereich für Hochstrom-EIS
Innovation in der EIS-Technologie – SIVONIC erweitert DC-Strombereich für Hochstrom-Impedanzspektroskopie (HC-EIS)
Offenlegungsschrift zur Temperaturmessung in SOxC-Stacks mit EIS
Offenlegungsschrift "Verringerung der Degradation zu einem Stack zusammengefügter Hochtemperatur-Festoxid-Zellen"
DE102023109509A1
Erfolgreiche Teilnahme an der Hydrogen Technology Expo in Hamburg
Vom 23. bis 24. Oktober 2024 fand die Hydrogen Technology Expo Europe in der Hamburg Messe statt. An unserem Stand 3E50 in Halle A3 führten wir den…